廢氣來源：電子元件和光伏等制造時，切割液溶劑揮發(fā)、粘結(jié)過程膠水溶劑揮發(fā)、油墨、涂料等物料調(diào)配過程中溶劑揮發(fā)、燒結(jié)過程溶劑揮發(fā)、印刷過程漿料、油墨溶劑揮發(fā)、涂裝過程涂料溶劑揮發(fā)、清潔清洗溶劑揮發(fā)、注塑過程注塑廢氣等。光電顯示器件的陣列、彩膜、成盒、模組等生產(chǎn)工序產(chǎn)生的酸性、堿性、有機廢氣及含氟廢氣等；集成電路制造的摻雜、光刻、刻蝕和薄膜生產(chǎn)工藝產(chǎn)生的酸性、堿性、砷烷、磷烷、有機廢氣；

廢氣組分：聚乙二醇、甲苯、二甲苯、松油醇、乙醇、異丙醇、丁醇、丙醇、丁酮、醋酸乙酯、醋酸丁酯、酯類、醇類、甲醛、異丙醇、丙烯腈、苯乙烯、非甲烷總烴等。磷酸、乙酸、硝酸、鹽酸、氮氧化物、氟化物、硫酸、氯氣、氫氧化鉀、氨等；粉塵、NOx、NF3、C2F6、CF4、C3F8、CHF3、SF6等氟化物；苯、醇、烷烴、醚、酮、酯類；硅烷、磷烷、砷烷等；

廢氣特點：風量大、污染物濃度易波動、成分復雜、部分有腐蝕性；

治理工藝：酸堿廢氣（濕式洗滌吸收）；高濃度有機廢氣（RTO/CO/RCO/TO）；低濃度有機廢氣（“預處理+沸石轉(zhuǎn)輪吸附濃縮-RTO”、“預處理+固定床活性炭或分子篩沸石吸附濃縮-CO”、“吸收+光催化”、“吸收+吸附”、“吸附”等組合工藝；

排放限值：NMHC及其它指標詳見《大氣污染物綜合排放標準》、《揮發(fā)性有機物無組織排放控制標準》或各地地標。

紫科裝備擁有應用于該行業(yè)相關的自主知識產(chǎn)權：21項

泛半導體項目展示

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